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电装G3沟槽栅SiC MOSFET研制

2026-08-31 09:44:14

今天这篇文章来自电装,主要内容是G3沟槽栅SiC MOSFET产品

先介绍背景

电机驱动逆变器与升压变换器是新能源汽车的核心功率部件, 现阶段该领域的功率器件主流方案仍为Si IGBT

欲提升整车能效、实现碳中和目标,需尽快大批量使用 损耗更低的SiC MOSFET

传统Si IGBT应用于大电流工况时,需采用多芯片并联

SiC MOSFET具备更大的电流密度, 通过芯片面积放大即可实现单芯片通流,如此可以降低系统体积,实现整机小型化 。

另外,现有商用Si IGBT芯片边长已突破15mmSiC MOSFET若想对标替代,芯片边长需做到10mm以上

1990年代起,电装(DENSO)便启动SiC器件研发,2020年、2023年分别推出第一代、第二代SiC MOSFET产品

本文将介绍电装第三代SiC MOSFET产品,及其在PHEV中的应用。

图片来源:网络

电装三代SiC MOSFET结构如上,

G1是栅沟槽两侧形成深P区,是如今BOSCH的路数,不知电装当初为何没有坚持这一技术路线,

原文有几处提到制造成本问题,大意是 深P区注入工艺成本高昂,后面的G2G3结构,或许都是为了降低深P区深度,以减小生产成本。

G2是截面图方向由深P区完全包裹沟槽,在器件纵深方向深P区间断分布,以留下电流流动路径

G3是沟槽底部形成P2区,器件纵深方向间断形成P1区,原文称之为网格状P区(lattice pattern

P区设置成网格状,有啥好处?

一方面,在横纵两个方向上均有屏蔽,如此可减小P区整体深度

原文称, 相比G2G3P区整体深度减小了0.8μm

深度减小后,P区之间的JFET电阻减小,电流密度有更大提升空间。

另一方面, 网格状P区可以显著降低栅漏电容,提升开关特性。

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这张图,对比 有无P2区对G3器件性能的影响,两种结构的P1深度、沟槽周期等保持一致

横轴电场强度,纵轴导通电阻

可以看到,结构B实现了更优的trade-off

相比结构A,相同电场下,器件导通电阻可降低25%左右。

这可以证明沟槽底部设置P2区的必要性

其实这也和博世G3结构相互映证,两者均在沟槽底部设置P区, 只不过博世另外一个P区是在侧视图间断分布,电装另外一个P区则是在俯视图间断分布

博世G3沟槽栅SiC MOSFET研制

接下来,看制作流程,

原文提到, 沟槽底部P2区通过自对准工艺形成,这也与博世的做法一致,

其他没有什么特别之处,但电装G3产品目标规格是10.2mm×10.2mm,如此大的芯片势必会使良率下降,

因此需要从材料端入手,提升衬底和外延质量。

图片来源:网络

原文提到RAF(Repeated A-Face growth method,重复A面生长法)制备SiC衬底,如上图,

简单解释一下,

若采用PVT等传统衬底生长方法,易产生微管、位错、堆垛层错等缺陷,使得大芯片良率急剧降低,

因此选用RAF生长,大概原理是:

先通过A面生长高质量单晶,将这一层作为新的籽晶,再次在A面上进行生长,如此重复,

这一过程中,位错会趋向于终止或合并,晶体缺陷逐渐降低,最终得到缺陷密度极低的SiC衬底。

再辅以外延工艺优化,最终使10.2mm×10.2mm芯片良率达到量产水平。

图片来源:网络

最终芯片如上,几种产品规格在表中列出,

都是方形管芯,1200V级别、10.2mm×10.2mm芯片,额定电流740A

Si IGBT产品一样, 该产品内部集成了电流检测、温度监测功能 ,可实现过流、过热及短路保护。

接下来,对1200V级别、10.2mm×10.2mm芯片,进行电性能测试,

图片来源:网络

常高温输出特性如上,

阈值电压4.6V25℃导通电阻1.8mΩ175℃导通电阻3.6mΩ

图片来源:网络

电容曲线如上,

网格状P区使得Crss显著降低,650V下电容密度仅有19 pF/cm2,相比G2产品下降40%

Ciss/Crss比值约1389,对如此大的芯片面积而言,已属优异。

图片来源:网络

电阻-栅电荷权衡如上,横轴栅电荷,纵轴高温电阻,

无论栅电荷还是电阻,电装G3产品均实现大幅提升。

在与丰田的合作中,这款产品全球首次实现了SiC MOSFET量产装车PHEV

这里解释一下,PHEVPlug-in Hybrid Electric Vehicle,插电式混合动力汽车,特点是有发动机和电机两套系统,需在两套系统之间切换,系统控制更加复杂。

由于芯片面积足够大,单芯片通流能力极强, 原Si IGBT方案需要两颗芯片并联,改用电装G3产品后,单颗芯片即可实现通流,功率模组拓扑设计大幅简化。

整机功率模组用量由原先的16套,缩减至11套,实现功率控制单元的小型化,为整车设计留出更大空间。

小结:

1、电装G3沟槽栅SiC MOSFET产品,特征是 在沟槽底部形成P2区,器件纵深方向间断形成P1区,两者组成网格状P区,

一方面可以减小P区整体深度,另一方面可以显著降低栅漏电容,

21200V级别、10.2mm×10.2mm芯片, 额定电流740A,阈值电压4.6V25℃导通电阻1.8mΩ175℃导通电阻3.6mΩ

3、与丰田合作,首次实现SiC MOSFET量产装车PHEV,整机功率模组用量由原先的16套缩减至11套。

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作者: 深圳市亿伟世科技有限公司
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