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1700V电荷平衡SiC MOSFET研制

2026-04-22 09:58:01

今天这篇文章来自复旦,很有意思,必须分享给各位。

介绍背景

近年,SiC器件已得到广泛应用,然而芯片面积较小、电流密度较高的特点决定,SiCMOSFET的短路耐受能力相对较低,

作为对比,SiIGBT典型短路耐受时间约10μs,而SiCMOSFET典型短路耐受时间约3μs

SiCMOSFET短路失效机制已有诸多研究,大致明确了两种失效机制:热失控、栅极失效,

前者由晶格温度升高与功耗增大之间的正反馈引发,最终导致器件烧毁,后者则是栅源介质开裂,最终导致栅源短路。

前人已提出多种提升SiCMOSFET短路能力的方案,但无一例外需要牺牲其他指标,尤其是会使导通电阻增大。

基于此,本文试图在SiCMOSFET涉及中引入电荷平衡概念,以提升器件短路能力。

图片来源:网络

器件结构如上,(a)是传统平面型SiCMOSFET,(b)是作者提出的电荷平衡型SiCMOSFET

两种结构的区别,在于(b)中的蓝色区域,此即P柱区域,

这里的P柱方向,与常规超结器件的柱区方向不同,

图(b)中标注了方向A、方向B,其中方向B垂直于纸面,

可以看到,这种电荷平衡型SiCMOSFET器件,P柱在B方向上呈间断分布,

而在常规超结器件中,P柱在B方向呈连续分布,在A方向呈间断分布(可以参考图a里的P阱),

这是核心差异。

设计上其实并不麻烦,画版图时,把P柱从原先的连续长条,改成一个个间断的方形墩即可。

作者制备了三种不同柱宽的电荷平衡型SiCMOSFET,称为CB1CB2CB3,以及一款常规结构器件CS

所有器件均为平面栅结构,元胞间距相同,外延条件一致,厚度12μm,浓度7e15cm-3

P柱结深约2.6μm,浓度约5e16cm-3

三种电荷平衡型器件仅柱宽存在差异。

图片来源:网络

器件SEM剖面图如上,(a)和(b)是从两个方向切出来的结果,

b)图中,除右下角那张图之外,是三种不同P柱宽度的CB器件,柱区深度、宽度基本与设计一致。

图片来源:网络

四种器件的基本参数及电性能如上,

Vth基本相同,表明柱宽变化对转移特性影响很小,

相比CS器件,三种CB器件的Ron,sp均明显减小,降幅超17%,这是高浓度P柱、N柱带来的优势,

另外相比CS器件,三种CB器件的电阻温度系数也略有降低,这有利于器件的高温出流能力,

但因为柱区深度不够,电阻温度系数的降幅很小。

图片来源:网络

测试结果如上,(a)是转移曲线,(b)是输出曲线,(c)是Rdon-IDS曲线,(d)是击穿曲线,

其他参数已在表中给出,重点看击穿特性的形状,

虽然四种器件BV相仿,但CB器件呈现软击穿特性,漏电起得较早,随后缓缓增加。

图片来源:网络

再看这张图,(a)是JFET中心区域电场强度随VDS变化关系,(b)是VthVDS变化关系,

相比CS器件,三种CB器件的JFET中心区域场强均有所降低,且VthVDS变化而变化的幅度也更小,

作者解释,这是由于P柱、N柱之间的横向耗尽使得空间电荷区从半导体材料更深处开始扩展,且扩展更快,形成电场屏蔽效应,

结果是,漏极电场更难影响沟道区域,抑制了漏致势垒降低效应(DIBL),从而呈现上图所示现象。

图片来源:网络

电容特性如上,

仔细看,蓝色的CS器件,CV曲线像正常那样,

但三种CB器件,CrssCoss曲线均出现了突变,且突变出现在不同VDS条件下,

为什么有此差异?

因为CB器件的耗尽可分为两个阶段,

1)与常规器件一致,发生在JFET区,

2CB器件独有的耗尽,发生在柱区,更强的横向耗尽使柱区在更低VDS条件下发生夹断,在电容曲线上呈现为突变点。

基本电性能测完,接下来,对比短路能力,

图片来源:网络

如上,先对比短路峰值电流,

将短路测试的栅极脉冲宽度固定为2μs,提取不同VDS条件下的Ipeak,如上,

左边是25℃,右边是175℃

CS器件明显高于三种CB器件,1000V下的Ipeak差距,从150A310A

CB3P柱最宽,Ipeak最低,

即横向耗尽越强,对DIBL效应的抑制作用越强,Ipeak越低。

再逐渐增大脉冲宽度,评估极限短路能力,

图片来源:网络

失效前的波形如上,

可以看到,三种CB器件的峰值电流仍然低于CS器件,且到达峰值后,CB器件的电流下降更加平缓,

漏电流到达峰值后会下降,这是晶格温度升高使得电阻增大所致,

从这里可以退出,短路过程中CB器件的结温更低、温升更慢,因此电流下降更平缓。

图片来源:网络

600V母线电压、+18V/-4V栅源电压条件下,仿真、实测波形如上,

ID曲线高度吻合,佐证温度曲线以及温度分布的可信度,

右图是两种器件在20%60%100%最大短路脉冲时长(tscmax)时的温度分布,

CS器件峰值温度出现在JFET区下方的N型外延层,CB器件的热量首先在N柱产生,再逐渐扩散到周围,

更强的横向耗尽作用抑制了DIBL效应,降低了Ipeak,以及电场分布更加均匀,以上所有因素共同减少了热量产生,使温度升高更加平缓。

图片来源:网络

四种器件的短路能力对比如上,

无论25℃还是175℃CB器件的ESCtsc均有提升,

相比室温,高温条件下四种器件的ESC均有所降低,这很正常,因为175℃距离临界失效点更近,只需要更少的能量便可发生热失控。

小结:

1、制备1700V电荷平衡型SiCMOSFETP柱在垂直于纸面方向上呈间断分布。

2、相比CS器件,三种CB器件的Ron,sp均明显减小,降幅超17%,电阻温度系数略有降低,BV相仿但击穿曲线更软。

3、相比CS器件,CB器件具备更强的横向耗尽作用,更有效地抑制了DIBL效应,实现更低的短路峰值电流以及更平缓的温升过程,进而提升了器件短路能力。

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作者: 深圳市亿伟世科技有限公司
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